プロセス電源におけるAEのリーダーシップが拡大 ― 広範な流量率で高信頼のパフォーマンスを発揮、半導体処理装置の生産性を高めるリモートプラズマ源の新製品ライン

東京,日本 - Media OutReach - 2020年12月18日 - アドバンスドエナジー(Nasdaq: AEIS) -- 高度なエンジニアリングの高精度電力変換、計測、制御ソリューションのグローバルリーダー  --  は本日 、半導体デバイス製造で用いられるプロセスチャンバーのプラズマクリーニング用の新製品ラインMAXstreamTM リモートプラズマ源 (RPS)を発表しました。広範な動作範囲が揃ったMAXstream製品ラインは、より高い出力精度、クラス最高の プラズマ点火と向上した信頼性で、この市場で最高性能のRPS ソリューションです。


 

 

「カスタマーから、高性能かつ高信頼性RPSへの業界ニーズに適合するための助力をご依頼頂き、当社はそれにお応えすることができました」とアドバンスドエナジーの半導体製品担当バイスプレジデント兼ゼネラルマネージャーのPeter Gillespieは述べています。「この新しいMAXstream 製品ラインは、カスタマーのプロセス装置にとってコスト効率が良く信頼できるRPS ソリューションであり、AEにとっても年間150 百万米ドルというRPS 市場への浸透を加速するものです。近年、この分野はほとんど革新がありませんでした。1当社はこれまでの好意的な反応に力を得ており、今月のOEMカスタマー各社への出荷分でもさらなる成功が期待されます」。


MAXstream による改善で、競合他社のRPS ソリューションを大幅に上回る利点が発揮されます。そのデユアルイグニションコア設計は、プラズマ点火でクラス最高の信頼度を実現しています。この高信頼性の完全な一発点火で、運用の安定化とダウンタイム縮小が達成されます。さらにMAXstreamに は、AEの実証済みの差別化されたプラズマ源素材と技術が採用され、チャンバーの長寿命化とパーティクル発生の低減が保証されています。

 

現行のRPS システムとのドロップイン・コンパチブルを促進するAEのMAXstream RPS 製品は、容易なデザイン・インの互換性もシームレスなフィールド・アップグレードも可能にします。カスタマーは、低パフォーマンスのRPS をこのMAXstreamに置換することで、装置の生産性とパフォーマンス信頼性を共に向上できます。また、サービスセンター十数か所とフィールドサービス/アプリケーションサポートを世界中に備えた、AEのクラス最高のグローバルサービスやアプリケーションサポートへのアクセスも得られます。

 

MAXstream 製品ラインは、ガス流量3、6、8、10、12リットル毎分(それぞれMAXstream 300、600、800、1000、1200)のRPS システムで構成され、カスタマーは自社の特定のプロセスに合わせた価格と性能の最適化が可能です。MAXstream 300 は低流量アプリケーション(最大3 リットル毎分のクリーニングガス)用の設計で、フットプリントも他の高流量モデルより小型です。


「チャンバー洗浄に必要なプラズマプロセスはほとんどあらゆる種類の半導体素子製造で使用されています」とアドバンスドエナジーのリモートプラズマ源担当ゼネラルマネージャーのShaun Wilsonは語ります。「当社のMAXstreamの発売によって、カスタマーはパワフルで信頼でき、かつコスト効率の良いソリューションをプロセスチャンバーで実現できるのです。さらに装置のダウンタイムが最小化され、半導体業界がデータエコノミーの需要を充足させる一助にもなります」。

 

技術的詳細は、 MAXstream 製品ページをご覧下さい。


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